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改善生物医用镁合金表面磁控溅射TiN涂层结合性能的方法
专利权人:
南京工程学院
发明人:
谈淑咏,章晓波,王章忠,巴志新,毛向阳
申请号:
CN201410431850.7
公开号:
CN104213091A
申请日:
2014.08.29
申请国别(地区):
CN
年份:
2014
代理人:
摘要:
本发明公开了一种改善生物医用镁合金表面磁控溅射TiN涂层结合性能的方法,方法为首先对生物医用镁合金表面进行预处理,然后通过直流梯度偏压工艺在镁合金表面沉积Ti过渡层,梯度偏压范围为0~-50V,最后采用直流磁控溅射方法在Ti过渡层表面沉积TiN涂层。本发明通过直流磁控溅射工艺成功地在新型生物医用镁合金表面制备TiN涂层,在所述工艺条件下,梯度偏压沉积过渡Ti层使得TiN涂层与基底结合较好,可制得总厚度约为800nm~2.5μm的涂层,涂层表面完整、连续、光滑,涂层厚度可通过沉积时间和氮流量比进行协调控制。镁合金表面TiN涂层可以降低镁合金摩擦系数,以满足生物医用镁合金在医用植入件方面的应用。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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