Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Dentalimplantats (20), umfassend die folgenden die Schritte: a) Bereitstellen eines Dentalimplantat-Grundkörpers, insbesondere eines Verankerungsstift-Grundkörpers； b) Strahlen mindestens eines Oberflächenabschnitts (40), der mit einer das Knochenwachstum fördernden Oberfläche auszubilden ist, und zumindest abschnittsweises Aufbringen von Strahlmittel auf den Oberflächenabschnitt； c) höchstens teilweises Entfernen des Strahlmittels von dem Oberflächenabschnitt (40)； d) Sintern des Dentalimplantat-Grundkörpers zusammen mit dem auf dem Oberflächenabschnitt (40) verbliebenen Strahlmittel.The invention relates to a method for producing a dental implant (20), comprising the following steps: a) provision of a dental implant base body, in particular of an anchoring pin base body； b) abrasive blasting of at least one surface portion (40), which is to be configured with a surface that promotes bone growth, and at least regional application of abrasive blasting agent to the surface portion； c) at most partial removal of the abrasive blasting agent from the surface portion (40)； d) sintering of the dental implant base body together with the abrasive blasting agent remaining on the surface portion (40).L'invention concerne un procédé de fabrication d'un implant dentaire (20), comprenant les étapes suivantes : a) fournir un corps de base d'implant dentaire, en particulier un corps de base de tige d'ancrage ； b) grenailler au moins une partie de surface (40) qui doit être réalisée avec une surface stimulant la croissance osseuse, et appliquer, au moins sur certaines parties, des grenailles sur la partie de surface ； c) éliminer au plus partiellement les grenailles de la partie de surface (40) ； d) fritter le corps de base d'implant dentaire conjointement avec les grenailles restées sur la partie de surface (40).
