As for this invention, being something regarding the device which forms the gaseous plasma nominal power of specification (P n) by ionizing with microwave source, as for the aforementioned device, the magnetron which receives electric power from the supply circuit (7) it has. As for the aforementioned device, the aforementioned magnetron 87) to the electric power which is supplied (P d) the aforementioned magnetron (7) nominal power (P n) it features that it is something which does not exceed 1/4 from the aforementioned supply circuit. < Selective figure >Figure 1本発明は、特定のノミナルパワー(Pn)のマイクロ波源でイオン化することによりガス状プラズマを生成する装置に関するもので、前記装置は、供給回路から電力を受けるマグネトロン(7)を備えている。前記装置は、前記供給回路から前記マグネトロン87)へ供給される電力(Pd)が前記マグネトロン(7)のノミナルパワー(Pn)の1/4を越えないものであることを特徴とする。【選択図】図1
