易修饰近红外二区有机小分子染料及其合成方法和应用
- 专利权人:
- 武汉大学
- 发明人:
- 洪学传,肖玉玲,丁兵兵,周晖
- 申请号：
- CN201811479005.1
- 公开号：
- CN109456304A
- 申请日:
- 2018.05.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种易修饰近红外二区有机小分子染料及其合成方法和应用。本发明的此类近红外二区荧光染料属于多甲川吡喃或多甲川噻喃盐类有机小分子,由多甲川苯胺盐与吡喃或噻喃盐通过缩合反应制成。合成原料易得,成本低廉,制备过程简单,产率高,可大量合成。并通过改变分子内多甲川链及杂原子种类,达到调节荧光发射光谱的目的。此类小分子染料的最大发射波长范围1000‑1200nm,荧光量子产率高,光稳定性好,非常适用于活体成像。该类小分子染料可通过点击化学与具有特定功能的基团连接,实现多种生物成像应用。其近红外二区荧光活体成像背景噪音低,荧光信号强,信噪比高。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
