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吡喃亚基丙二腈类光敏剂先导化合物合成方法及其应用
专利权人:
遵义医科大学
发明人:
高杰,袁泽利,屈小芳
申请号:
CN202010405671.1
公开号:
CN111484469A
申请日:
2020.05.14
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
吡喃亚基丙二腈类光敏剂先导化合物合成方法及其应用该先导化合物以2,6‑二甲基‑4‑吡喃亚基丙二腈为底物,构建了三种不同链长的小分子光敏剂(PS1‑3),所述结构如式(I)所示,其光动力性能和荧光性质各有不同。本发明还公开了在细胞层面肿瘤成像和治疗的应用。本发明中的先导化合物结构简单、分子量小,具有确定的化学结构,易于制备、纯化和进一步修饰,且细胞毒性较低等特点。通过细胞实验证明,借助外部可见光源可实现细胞的近红外成像和光动力治疗,显著抑制肿瘤的生长。因此,本发明涉及的单分子光敏剂先导化合物在乳腺癌治疗方面具有良好的应用前景。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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