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氫供給材料與其製造方法、及氫供給方法
专利权人:
KIT CO. LTD.;AUO CRYSTAL CORPORATION;KOBAYASHI, HIKARU;KOBAYASHI; HIKARU
发明人:
KOBAYASHI, HIKARU,小林光,KOBAYASHI, YUKI,小林悠辉,小林悠輝
申请号:
TW106125644
公开号:
TW201836992A
申请日:
2017.07.28
申请国别(地区):
TW
年份:
2018
代理人:
摘要:
A layered solid agent 100a, which is a hydrogen supply material 200 of the present invention, includes silicon fine particles or aggregates thereof having hydrogen generating ability and a physiologically acceptable medium 90b in contact with the silicon fine particles or aggregates thereof.In addition, the hydrogen supply material 200 is a hydrogen supply material for bringing the hydrogen into contact with the skin and/or mucous membrane via the medium 90b.作為本發明之氫供給材料200之層狀固形劑100a具備有:具有氫生成能之矽微粒或其凝聚體;及與該矽微粒或其凝聚體接觸之生理學上可接受之介質90b。此外,此氫供給材料200係經由介質90b使上述氫接觸皮膚及/或黏膜之氫供給材料。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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