Composition A low irritancy cleansing composition comprises: (a) an anionic surfactant compound of formula (I): wherein R1 represents a C4-36 substituted or unsubstituted hydrocarbyl group each of R2, R3, R4 and R5 independently represents a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group and wherein at least one of R2, R3, R4 and R5 is not hydrogen and M+ represents a cation (b) an amphoteric surfactant and (c) an alkoxylated non-ionic species wherein the molar ratio of component (a) to component (b) is from 0.5:1 to 2:1 and wherein the ratio of the mass of component (c) to the combined mass of components (a) and (b) is less than 1.2:1.Una composición de limpieza con baja irritabilidad que comprende: (a) un compuesto de agente tensoactivo aniónico de fórmula (I): (ver fórmula(I)) en donde R1 representa un grupo hidrocarbilo sustituido o no sustituido de C4-36 cada uno de R2, R3, R4 y R5 representa independientemente un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo de C1-4 y en donde por lo menos uno de R2, R3, R4 y R5 no es hidrógeno y M+ representa un catión (b) un agente tensoactivo anfotérico y (c) una especie no iónica alcoxilada en donde la relación molar del componente (a) al componente (b) es de 0.5:1 a 2:1 y en donde la relación de la masa del componente (c) a la masa combinada de los componentes (a) y (b) es de menos de 1.2:1.
