UNIVERSITY OF SASKATCHEWAN;INSTITUT NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE
发明人:
FOURMAUX, Sylvain,KIEFFER, Jean-Claude,HALLIN, Emil
申请号：
CACA2019/050924
公开号：
WO2020/006638A1
申请日:
2019.07.04
申请国别(地区):
CA
年份:
2020
代理人:
摘要：
A X-ray source, comprising a laser, of a pulse duration of at most 40 fs, instantaneous power of at least about 80TW, a pulse repetition rate of at least 1Hz； an optical compressor spectrally shaping the laser beam； focusing optics in the range between f#10 and f#15； and a gas target of electron density after ionization by the laser beam in a range between 1018cm3 and 1019cm-3； wherein the focusing optics focuses the laser beam in the gas target, and interaction of the focused laser beam with the gas target generates an X-ray beam, with a focused laser amplitude a0, given by a0 = 0.855 [IL (1018W/cm2) λL2 (µm)]1/2, where IL is the on-target laser intensity and λL is the laser wavelength, of at least 2 and a P/Pc ratio value of at least 20, with P being the beam power and Pc a critical power given by Pc = 17 (nc/n) GW where n is the electron density and nc is a critical electron density at which the plasma acts as a mirror reflecting the laser beam.Source de rayons X, comprenant un laser, ayant une durée d'impulsion d'au maximum 40 fs, une puissance instantanée d'au moins environ 80 TW, un taux de répétition d'impulsions d'au moins 1 Hz ； un compresseur optique façonnant spectralement le faisceau laser ； de l'optique de concentration dans la plage entre f#10 et f#15 ； et une cible de gaz de densité électronique après ionisation par le faisceau laser dans une plage comprise entre 1018cm3 et 1019cm-3 ； l'optique de concentration concentrant le faisceau laser dans la cible de gaz, et une interaction du faisceau laser concentré avec la cible de gaz générant un faisceau de rayons X, d'une amplitude laser concentrée a0, donnée par a0 = 0,855 [IL (1018W/cm2) λL2 (µm)]1/2, où IL est l'intensité laser sur cible et λL est la longueur d'onde Laser, d'au moins 2 et une valeur de rapport P/Pc d'au moins 20, P étant la puissance de faisceau et Pc une puissance critique donnée par Pc = 17 (nc/n) GW où n est la densité électronique et nc est une densité électronique critique à laque
