The present invention relates to a plasma processing apparatus, and more particularly, to a plasma processing apparatus for minimizing the emission of by-products. According to an embodiment of the present invention, there is provided a plasma processing apparatus comprising: a plasma generating unit generating plasma； A lid part covering a processing part to be treated with plasma and supplying plasma from the plasma generating part to the processing part； An exhaust part for exhausting the exhaust gas from the lid part； By-product removal of by-products from the exhaust gas； A sensor unit for sensing whether the processing portion is sealed by the lid； And a controller for controlling the plasma generator according to whether the sensed processing site is sealed.본 발명은 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로 부산물 방출을 최소화하기 위한 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리 장치는, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부； 플라즈마로 처리되는 처리 부위를 덮고, 상기 플라즈마 발생부로부터 플라즈마를 공급받아 처리 부위에 제공하는 덮개부； 상기 덮개부로부터 배기 가스를 배기하는 배기부； 배기 가스에서 부산물을 제거하는 부산물 제거부； 상기 덮개부에 의한 처리 부위의 밀폐 여부를 감지하는 센서부； 및 상기 감지된 처리 부위의 밀폐 여부에 따라 상기 플라즈마 발생부를 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.
