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荷電粒子ビーム照射システム
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
藤井 祐介,平本 和夫,秋山 浩,西内 秀晶
申请号:
JP2009147664
公开号:
JP5193132B2
申请日:
2009.06.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten the irradiation time even when the number of spots increases and also apply a target dose of beams to each spot with good accuracy in a spot scanning method.SOLUTION: A central control device 46 decides a target beam current value in advance according to the target dose so that the irradiation time is substantially uniform at every spot. An accelerator control part 47 adjusts a current value of a charged particle beam emitted from a synchrotron 4 to obtain the target beam current value. The central control device 46 calculates a delay dose to the beam current value in advance, and on reaching a set dose obtained by subtracting the delay dose from the target dose, an irradiation device control part 48 and the accelerator control device 47 start the control to output an emission stop signal and stop beam emission.COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】スポットスキャン法において、スポット数が多くなった場合でも照射時間を短縮し、かつ目標照射量のビームを精度良く各スポットに照射できるようにする。【解決手段】中央制御装置46は、事前に目標照射量に応じて、スポット毎に照射時間がほぼ一定となるように目標ビーム電流値を決定し、加速器制御部47は、その目標ビーム電流値が得られるようシンクロトロン4から出射する荷電粒子ビームの電流値を調整する。また、中央制御装置46は事前にビーム電流値に対する遅延照射量を計算し、照射装置制御部48及び加速器制御部47は目標照射量から遅延照射量を引いた設定照射量に達した時点で出射停止信号を出力してビーム出射を停止する制御を開始する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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