您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

기저막의 단백질 합성 자극용 화장료 조성물
专利权人:
发明人:
하이들 마르크,스토클리 마틴,임펠트 도미니크,지글러 휴고
申请号:
KR1020087028769
公开号:
KR1013325780000B1
申请日:
2006.04.28
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要:
present invention, R 1 is H, C 1 -C 20 - an alkyl, cycloalkyl or aryl -C 1 -C 4 - alkyl, n is 1 to 4 , X is -O-, -NH- or -NR 2 - and, R 2 is H or C 1 -C 20 - alkyl and at least one compound of formula I, in the compound represented by the general formula I X is -NH- among the possible definition, XR 1 radical of the - amino acid topically applicable composition comprising the one or more compounds These compounds and the use of a composition for stimulating protein synthesis of the base film And X is -NR 2 - and R 1 and R 2 and the compound represented by formula (I) of formula (I) wherein the molecules of the non-H In the compound X is -NH- of the possible definitions, XR 1 relates to compounds of the - amino radical:formula I본 발명은, R1이 H, C1-C20-알킬, 사이클로알킬 또는 아릴-C1-C4-알킬이고, n이 1 내지 4이고, X가 -O-, -NH- 또는 -NR2-이고, R2가 H 또는 C1-C20-알킬인 화학식 I의 1종 이상의 화합물과, 화학식 I로 표시되는 화합물에서 X가 상기 가능한 정의 중 -NH-인, XR1이 α-아미노산의 라디칼인 1종 이상의 화합물을 포함하는 국소 적용가능한 조성물 기저막의 단백질 합성 자극을 위한 이들 화합물 및 조성물의 용도 및 X가-NR2-이고 R1 및 R2가 H 이외의 분자인 화학식 I의 화합물과 화학식 I로 표시되는 화합물에서 X가 상기 가능한 정의 중 -NH-인, XR1이 α-아미노산의 라디칼인 화합물에 관한 것이다:화학식 I
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充