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Antimicrobial photo-stable coating composition
专利权人:
Vyacheslav Dudnik
发明人:
Vyacheslav Dudnik,Yakeemovich Natali,Valerio DiTizio,Frank DiCosmo
申请号:
US12183426
公开号:
US08877256B2
申请日:
2008.07.31
申请国别(地区):
US
年份:
2014
代理人:
摘要:
The invention is an antimicrobial photo-stable coating composition that deters photo-induced discoloration, does not stain tissue and can be applied to the surface of a variety of medical materials. The composition comprises in an aspect silver-PCA complex and dye.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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