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전자기 방사의 보강적 간섭을 이용한 열적 처리 시스템
专利权人:
发明人:
로즈 그레고리 지
申请号:
KR1020127000678
公开号:
KR1014334810000B1
申请日:
2010.06.10
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The methods and systems, using a microwave or other electromagnetic radiation, to other parts of the object without a harm makes it possible to thermally process a portion of the target object. In one embodiment, a plurality of electromagnetic radiation transmitters are coupled to the positioning and control processor in the thermal processing system. Electromagnetic radiation may be transmitted as a pseudo Landon waveform, may be a microwave radiation. Control processor, in the emitted electromagnetic radiation is radiation that passes through the treatment volume while the rest of the object that is to be reinforced interference typically appears as random noise or interference, and adjusts the transmitter. As a result, in the volume of the electromagnetic wave radiation to reach the same phase, while the power of all the transmitters is the addition of reinforcement typically generate a significant temperature rise, and the rest of the object is exposed to a much lower average power level, therefore a lower temperature The rising generation.방법들 및 시스템들은, 마이크로파 또는 다른 전자기 방사를 이용하여, 대상체의 다른 부분들에 해를 끼치지 않고 대상체의 일부분을 열적 처리하는 것을 가능하게 한다. 일 실시형태에서, 복수의 전자기 방사 전송기들은 열적 처리 시스템 내에 위치결정되고 제어 프로세서에 커플링된다. 전자기 방사는 의사랜던 파형으로서 전송될 수도 있고, 마이크로파 방사일 수도 있다. 제어 프로세서는, 방출된 전자기 방사가 처리 체적 내에서는 보강적으로 간섭하는 한편 대상체의 나머지 부분을 통과하는 방사는 랜덤하게 간섭하거나 잡음으로서 나타나도록, 전송기들을 조정한다. 결과로서, 전자기 방사 파형들이 동위상으로 도달하는 체적 내에서는 모든 전송기들의 파워가 보강적으로 더해져 상당한 온도 상승을 발생시키는 반면, 대상체의 나머지 부분은 훨씬 더 낮은 평균 파워 레벨에 노출되고 따라서 더 낮은 온도 상승이 발생한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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