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POROUS IMPLANT
专利权人:
发明人:
임빈켈리드, 토마스,기거, 루카스
申请号:
KR1020087002839
公开号:
KR1012267790000B1
申请日:
2005.08.10
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要:
An implant comprising a shaped body having a first region with a mean porosity P<;SUB>;2 <;/SUB>;and a second region with a mean porosity P<;SUB>;3<;/SUB>;<;P<;SUB>;2<;/SUB>;; wherein the second region with the lower mean porosity P<;SUB>;3 <;/SUB>;is effective for handling and fixation of the implant.본 발명은 외상에 대한 외과적 처치에 사용되는 임플란트에 관한 것이다. 본 발명은 성형체를 구비하는 임플란트(1)에 있어서, (A) 상기 성형체는, 평균 다공률 (P2)을 갖는 제1부(2)와 평균 다공률(P3)(P3<P2)을 갖는 제2부(3)를 포함하고; (B) 상대적으로 낮은 평균 다공률(P3)을 갖는 상기 제2부(3)는, 상기 임플란트(1)의 조작 또는 고정을 위한 부분으로 성형됨을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에 따르면 임플란트를 조작하거나 고정하는 동안에 마모로 인한 파편이 생성되는 것을 방지할 수 있다는 장점이 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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