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Ａｌ合金スパッタリングターゲット
- 专利权人:
- 株式会社コベルコ科研
- 发明人:
- 高木 勝寿
- 申请号：
- JP20150115184
- 公开号：
- JP2017002343(A)
- 申请日:
- 2015.06.05
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】成膜速度を高めることができ、タッチパネル等の生産性を格段に向上させることが可能なＡｌ−Ｎｄ合金スパッタリングターゲットの提供。【解決手段】スパッタリングターゲットは、Ｎｄを０．１〜３原子％含有するＡｌ合金からなり、Ｘ線回折ピーク強度が式（１）の関係を満たし、且つ、ビッカース硬さが２９〜３６であり、平均結晶粒径が１０〜１００μｍであるＡｌ合金スパッタリングターゲット。ＩAl(200)＞ＩAl(311)＞ＩAl(220)＞ＩAl(111)…（１）（ＩAl(200)はＡｌ（２００）面のＸ線回折ピーク強度；ＩAl(311)はＡｌ（３１１）面のＸ線回折ピーク強度；ＩAl(220)はＡｌ（２２０）面のＸ線回折ピーク強度；ＩAl(111)はＡｌ（１１１）面のＸ線回折ピーク強度）【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
