Ｔｉ−Ａｌ合金スパッタリングターゲット
- 专利权人:
- ＪＸ金属株式会社
- 发明人:
- 原田 健太郎,浅野 孝幸
- 申请号：
- JP20150506764
- 公开号：
- JPWO2014148424(A1)
- 申请日:
- 2014.03.17
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- Ａｌを１５〜９０ｗｔ％含有し、残余がＴｉであるＴｉ−Ａｌ合金からなるスパッタリングターゲットであって、前記Ｔｉ−Ａｌ合金の平均結晶粒径が１５０μｍ以下であることを特徴とするＴｉ−Ａｌ合金スパッタリングターゲット。積層薄膜を構成する物質の相互拡散により発生する汚染防止のためのバリアー膜形成に使用することのできる有用なＴｉ−Ａｌ合金パッタリングターゲットを提供する。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
