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一种用于去除光机元件表面微量有机污染物的烘烤装置
- 专利权人:
- 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 发明人:
- 苗心向,贾宝申,吕海兵,王洪彬,周国瑞,刘昊,程晓锋,袁晓东,牛龙飞
- 申请号：
- CN201520860698.4
- 公开号：
- CN205128519U
- 申请日:
- 2015.11.02
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 翟长明`韩志英
- 摘要：
- 本实用新型提供了一种用于去除光机元件表面微量有机污染物的烘烤装置。该烘烤装置利用低真空烘烤方式，通过红外烘烤灯烘烤出金属或熔石英光机元件表面或亚表面的有机污染物，并将有机污染物利用微量循环空气带出真空箱。该烘烤装置使用空气过滤器和AMC过滤器，避免了空气中的颗粒及有机物对光机元件表面的二次污染；该烘烤装置通过调节真空压力及烘烤温度，可以在确保在光机元件性能不变的情况下去除光机元件表面或者亚表面有机污染物，同时达到较高的洁净度等级。本实用新型的烘烤装置具有有机污染物去除效果好、结构简单、不引入二次污染、易于使用的优点，可拓展适用于航空、航天等对洁净度要求比较高的领域。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
