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APPLICATION À CISAILLEMENT ÉLEVÉ UTILISÉE DANS UNE THÉRAPIE MÉDICALE
专利权人:
ANTHONY, Rayford G.;HASSAN, Aziz;H R D CORPORATION;HASSAN, Abbas
发明人:
HASSAN, Abbas,HASSAN, Aziz,ANTHONY, Rayford G.
申请号:
USUS2011/031725
公开号:
WO2011/139478A3
申请日:
2011.04.08
申请国别(地区):
US
年份:
2012
代理人:
摘要:
In this disclosure, a method is described wherein the method comprises mixing a therapeutic gas or a therapeutic liquid or a combination thereof and a liquid carrier in a high shear device to produce a dispersion; and administering the produced dispersion intravenously to a patient; wherein the produced dispersion contains nanobubbles of the therapeutic gas or droplets of the therapeutic liquid with a mean diameter of less than about 1.5 μm. In this disclosure, a system is also described wherein the system comprises a therapeutic gas source or a therapeutic liquid source or a combination thereof; a liquid carrier source; a high shear device (HSD) having an inlet, an outlet, at least one rotor, and at least one stator separated by a shear gap; and a pump configured to control the flow rate and residence time of a fluid passing through the high shear device.L'invention concerne un procédé qui consiste à mélanger un gaz thérapeutique ou un liquide thérapeutique ou une combinaison de ceux-ci et un excipient liquide dans un dispositif à cisaillement élevé afin de produire une dispersion; puis à administrer par intra-veineuse la dispersion ainsi produite à un patient; ladite dispersion contenant des nano-bulles de gaz thérapeutique ou des gouttelettes du liquide thérapeutique présentant un diamètre moyen inférieur à environ 1,5 μm. La présente invention concerne également un système comprenant une source de gaz thérapeutique ou une source de liquide thérapeutique ou une combinaison de celles-ci; une source d'excipient liquide; un dispositif à cisaillement élevé pourvu d'un orifice d'amenée, d'un orifice de sortie, d'au moins un rotor, et d'au moins un stator séparé par un espace vide de cisaillement; et une pompe conçue pour réguler le débit et le temps de séjour d'un fluide traversant le dispositif à cisaillement élevé.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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