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気体局所施用システム
专利权人:
株式会社丸昇農材
发明人:
横山 高幸
申请号:
JP2017003398
公开号:
JP3212877U
申请日:
2017.07.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
To provide a gas topical application system capable of minimizing the amount of gas ejected in a simple configuration and at low cost.SOLUTION: The local topical application system comprises at least a gas supply source 2, a main pipe 3 connected to a gas supply source, and an application pipe 5 connected to the main pipe and having a diameter smaller than the diameter of the main pipe , A plurality of application pipes 5 are connected to the main pipe and a plurality of small holes 6 are provided at predetermined intervals along the longitudinal direction of the application pipe. Furthermore, the relay pipe 4 is connected between the main pipe and the application pipe, and the diameter of the relay pipe is smaller than the diameter of the main pipe and larger than the diameter of the application pipe.BACKGROUND OF THE INVENTION【課題】簡易な構成且つ低コストで気体の噴出量を限りなく均一化できる気体局所施用システムを提供する。【解決手段】気体局所施用システムは、少なくとも気体供給源2と、気体供給源に接続される主パイプ3と、主パイプに接続され、主パイプの直径より小径の施用パイプ5とを含んで成り、主パイプに対して複数の施用パイプ5が接続され、施用パイプの長手方向に沿って、所定の間隔を空けて複数の小孔6が設けられている。更に、主パイプと施用パイプとの間に接続される中継パイプ4を備え、中継パイプの直径が、主パイプの直径より小径であって且つ施用パイプの直径より大径である。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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