Cyrille, Dr. Gasqueres,Amir Eliezer,Elvira, Dr. Dingeldein,Frank, Dr.med. Witte
申请号：
DE102009023459
公开号：
DE102009023459B4
申请日:
2009.06.02
申请国别(地区):
DE
年份:
2017
代理人:
摘要：
Verfahren zur Behandlung einer Oberfläche eines Substrates umfassend die folgenden Verfahrensschritte:– Bereitstellen eines Kolloid-dispersen Systems mit Kolloid-dispergierten Teilchen,– Aussetzen des Substrates dem Kolloid-dispersen System derart, dass eine Oberfläche des Substrates, die zu behandeln ist,in das Kolloid-disperse System eingetaucht ist,– Erzeugen einer asymmetrischen AC-Spannungsdifferenzzwischen dem Substrat als eine erste Elektrode und/oder einer zweiten Elektrode, die in dem Kolloid-dispersen System positioniert ist,so dass die eingetauchte Oberfläche durch eine Plasma-elektrolytische Oxidation zu einer Oxidschicht konvertiert wird, wobei die konvertierte Oberfläche teilweise mit Inseln bedeckt ist, die durch die Kolloid-dispergierten Teilchen des Kolloid-dispersen Systems gebildet sind,wobei von einer Spannungsversorgungseinheit die AC-Spannungsdifferenz erzeugt und der ersten Elektrode und/oder der zweiten Elektrode derart zugeführt wird,dass eine gleichmäßige elektrische Feldverteilung erreicht wird, indem Mittel bereitgestellt werden zum Verbinden der ersten Elektrode, die einen angepassten reduzierten oder einen angepassten vergrößerten Querschnitt in Bezug auf den Querschnitt des verbundenen Substrates haben,wobei das Querschnittsverhältnis, welches der Quotient des Querschnitts des Substrats geteilt durch den Querschnitt der Mittel zum Verbinden der ersten Elektrode ist, im Bereich zwischen 0,75 und 4 liegt.A method of treating a surface of a substrate, comprising the steps of: providing a colloid-disperse system with colloid-dispersed particles； exposing the substrate to the colloid-disperse system such that a surface of the substrate to be treated enters the colloid dipped system, generating an asymmetrical AC voltage difference between the substrate as a first electrode and / or a second electrode positioned in the colloid-disperse system, such that the immersed surface becomes a plasma electrolytic oxidation Oxide layer is converted
