一种B超耦合剂出料抹匀装置
- 专利权人:
- 孙艳平
- 发明人:
- 孙艳平,林雁,郭文慧
- 申请号：
- CN201621227610.6
- 公开号：
- CN206443711U
- 申请日:
- 2016.11.16
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型涉及一种B超耦合剂出料抹匀装置，旋转筒的中心固定安装有空心轴，支承连接架安装在空心轴内，在旋转筒上开设有耦合剂流通槽，耦合剂流通槽两侧的旋转筒表面设置有凸块，利用旋转筒的旋转实现在以旋转筒的轴心方向的自由旋转，同时，利用手持旋转轴承实现在以手持柄体轴心方向上的自由旋转，实现两个相交叉轴心的各自自由旋转，实现全方位的上料后的匀料作业，实现耦合剂上料后的抹平作业顺利高效的完成，同时本产品设置的旋转筒可以自由的卸下，实现使用后的全方位杀毒作业，剩下支承连接架以上的部位单独不需要消毒，方便小体积物体并节省消毒液，实现快速周转使用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
