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基材―シリカゾル乾燥物複合体及びその製造方法
专利权人:
IRIE TOSHIO
发明人:
IRIE TOSHIO,入江 敏夫
申请号:
JP2017225768
公开号:
JP2018183767A
申请日:
2017.11.24
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate-silica sol dried article composite having a OH radical precursor with equal equivalent of positive holes as a substrate, and decomposing bad odor, harmful gas such as VOC, ethylene even without light.SOLUTION: Decomposition and detoxification are conducted by a OH radical precursor obtained by a substrate-silica sol dried article composite manufactured by applying a silica sol containing hydroxide of alkali metal represented by NaOH of 2.5 milli mol to 7.1 milli mol based on 1 mol of silica onto a substrate and drying the same, when contacted with harmful compounds such as bad odor even without light. Co-existing of the OH radical is demonstrated when peak intensity of cinnamic acid in a fluorescence spectral test of a coumarin solution is 1/10 or lower of the peak intensity of a NaOH-coumarin solution at same concentration containing no silica sol. The OH radical precursor does not decompose or corrode solid organic substrates such as natural, recycled, chemical fiber, wood and paper such as polyester and cotton.SELECTED DRAWING: Figure 4COPYRIGHT: (C)2019,JPO&INPIT【課題】基材として正孔と等価のOHラジカル前駆体を保有し、悪臭,VOC、エチレン等の有害気体を無光下でも分解する基材―シリカゾル乾燥物複合体の提供。【解決手段】NaOHに代表されるアルカリ金属の水酸化物をシリカ1モルに対し2.5ミリモル以上7.1 ミリモル以下含有するシリカゾルを、基材上に塗布後乾燥して得られる基材-シリカゾル乾燥物複合体が悪臭等の有害化合物に接触したとき無光下においてもその保有するOHラジカル前駆体により分解・無害化する。クマリン水溶液の蛍光分光試験でケイヒ酸のピーク強度がシリカゾルを含まず同一濃度のNaOH―クマリン水溶液のピーク強度の10分の1以下の場合にOHラジカルの共存が実証される。こOHラジカル前駆体はポリエステル、コットンなどの天然、再生、化学繊維、木材、紙、などの固体の有機物基材を分解,浸食しない。【選択図】図4
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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