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ターゲット、ターゲットの製造方法、及び中性子発生装置
专利权人:
株式会社カネカ
发明人:
村上 睦明,多々見 篤,立花 正満
申请号:
JP2018513212
公开号:
JPWO2017183693A1
申请日:
2017.04.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
Provided is a target capable of reducing the degree of radiation and having sufficient durability and heat resistance when being used as a target for an accelerator. This target (A) has a metal film (3) and a substrate comprising a graphite film (4). The thermal conductivity in the surface direction of the graphite film (4) is at least 1,600 W/(m·K), the thermal conductivity in the film surface direction is at least 100 times the thermal conductivity in the film thickness direction, and the thickness of the graphite film (4) is 1-100 µm.La présente invention concerne une cible capable de réduire le degré de rayonnement et ayant une durabilité et une résistance à la chaleur suffisantes lorsquelle est utilisée comme cible pour un accélérateur. La cible (A) de linvention comporte un film métallique (3) et un substrat comprenant un film de graphite (4). La conductivité thermique dans la direction de la surface du film de graphite (4) est dau moins 1600 W/(m·K), la conductivité thermique dans la direction de la surface du film représente au moins 100 fois la conductivité thermique dans la direction de lépaisseur du film, et lépaisseur du film de graphite (4) est de 1 à 100 µm.加速器のターゲットとして利用するにあたって十分な耐久性、耐熱性を有し、放射化の程度を小さくし得るターゲットを実現する。本発明のターゲット(A)は、金属膜(3)と、グラファイト膜(4)から構成される基板と、を有し、グラファイト膜(4)の面方向の熱伝導度は、1600W/(m・K)以上であり、膜面方向の熱伝導度が膜厚方向の熱伝導度の100倍以上であり、グラファイト膜(4)の厚さは、1μm以上、100μm以下である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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