ケイ素含有粒子の紫外線に対する保護のための使用、前記粒子の製造方法および前記粒子を含有する配合物

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专利权人:

エボニック デグサ ゲーエムベーハー

发明人:

JUERGEN ERWIN LANG,ユルゲン エルヴィン ラング,KROELL MICHAEL,ミヒャエル クレル,GOSWIN UEHLENBRUCK,ゴスヴィン イューレンブルック

申请号：

JP2015231254

公开号：

JP2016102119A

申请日:

2015.11.27

申请国别(地区):

JP

年份:

2016

代理人:

摘要：

PROBLEM TO BE SOLVED: To develop a novel ultraviolet filter which is preferably dissolvable biologically or should be dissolvable in organisms, although it should not be dissolved by ultraviolet.SOLUTION: A silane mass flow is supplied to a plasma discharge apparatus with a silicon-halogenated compound, e.g., an impure ingredient which is a compound containing chlorine and bromine, wherein it is reacted e.g., in a high voltage pulse discharge.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】紫外線によって分解されるべきではないが、好ましくは生物学的に分解可能であるかまたは生物において分解可能であるべきである、新たな紫外線フィルタを開発する。【解決手段】シラン物質流を、ケイ素-ハロゲン化合物、例えば塩素、臭素を含む化合物である混入物とともにプラズマ放電装置に供給し、そこで例えば高電圧パルス放電中で反応させる。【選択図】なし

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/