A hydroponic culturing apparatus provided with: a culturing tank (1) in the interior of which plants (P) are maintained and into the lower section of which a nutrient solution (F) is introduced a partition (4) for partitioning into a first space (D1) in which the above-ground portions (P1) of the plants (P) are located and a second space (D2) in which the below-ground portions (P2) of the plants (P) are located an environment control section (81) for performing control to adjust the temperature of the first space (D1) to a first temperature in a first period and to a second temperature that is lower than the first temperature in a second period and a humidity control section (83) for performing control to reduce the humidity of the second space when the plant growth period transitions from the first period to the second period.Linvention concerne un appareil de culture hydroponique comportant : un réservoir de culture (1) à lintérieur duquel sont maintenues des plantes (P) et dans la section inférieure duquel est introduite une solution de nutriments (F) une séparation (4) pour séparer en un premier espace (D1) dans lequel sont situées les parties au-dessus du sol (P1) des plantes (P) et un second espace (D2) dans lequel sont situées les parties en dessous du sol (P2) des plantes (P) une section de régulation denvironnement (81) pour exécuter une régulation pour ajuster la température du premier espace (D1) à une première température pendant une première période et à une seconde température qui est inférieure à la première température pendant une seconde période et une section de régulation dhumidité (83) pour exécuter une régulation pour réduire lhumidité du second espace lorsque la période de croissance de la plante passe de la première période à la seconde période.水耕栽培装置は、内部に植物体(P)が保持され、下部に養液(F)が導入される栽培槽(1)と、植物体(P)の地上部(P1)が位置する第1の空間(D1)と植物体(P)の地下部(P2)が位置する第2の空間(D2)とを仕切る仕切り部(4)と、第1の空間(D1)の温度を、第1の期間において第1の温度に調節し、かつ、第2の期間において第1の温度より低い第2の温度に調節する制御を実行する環境制御部(81)と、植
