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Systems and methods for facial treatment and deformation detection
专利权人:
메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지
发明人:
김 지환,이 규상,김 윤조,정 광용
申请号:
KR1020197016075
公开号:
KR1020190085006A
申请日:
2017.11.08
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
A method of treating a user''s face while wearing a treatment system is disclosed. The treatment system includes a flexible film and circuitry disposed on or within the flexible film. The method includes conformally placing a flexible film over a user ' s face and applying radio frequency (RF) waves generated by the circuit onto the skin of the face. The method eliminates the need for the user (or a third party operator) to manually maintain the device. In addition, the thin film can be configured as a face mask that allows treatment over a large area of skin at any given time.치료 시스템을 착용하는 동안 사용자의 얼굴 치료의 방법이 개시된다. 치료 시스템은 가요성 필름 및 가요성 필름 상에 또는 내에 배치되는 회로를 포함한다. 방법은 사용자의 얼굴에 걸쳐 가요성 필름을 컨포멀하게 배치하는 단계 및 회로에 의해 발생되는 라디오 주파수(RF) 파를 얼굴의 피부 상에 인가하는 단계를 포함한다. 방법은 사용자(또는 제3자 조작자)가 디바이스를 손으로 유지하기 위한 요구를 제거한다. 게다가, 박막은 임의의 주어진 시간에 피부의 큰 영역에 걸쳐 치료를 허용하는 얼굴 마스크로서 구성될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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