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Thiol-containing compounds for removing elements from tissues and preparations thereof
专利权人:
ユニヴァーシティ オブ ケンタッキー リサーチ ファウンデイション
发明人:
ヘイリー,ボイド,イー.,アトウッド,デイヴィッド,エイ.,グプタ,ニラドリ,エヌ.,ヘイリー,ボイド,イー.,アトウッド,デイヴィッド,エイ.,グプタ,ニラドリ,エヌ.
申请号:
JP2013557712
公开号:
JP2014507470A
申请日:
2012.01.06
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
Methods and pharmaceutical formulations for ameliorating heavy metal toxicity and/or oxidative stress are disclosed, comprising administering pharmaceutically effective amounts of ligands according to the present disclosure. The ligands are of the general structure: where R1 comprises benzene, pyridine, pyridin-4-one, naphthalene, anthracene, phenanthrene or alkyl groups, R2 comprises hydrogen, alkyls, aryls, a carboxyl group, carboxylate esters, organic groups or biological groups, R3 comprises alkyls, aryls, a carboxyl group, carboxylate esters, organic groups or biological groups, X comprises hydrogen, lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, francium, alkyls, aryls, a carboxyl group, carboxylate esters, thiophosphate, N-acetyl cysteine, mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, thiolsalicylate, organic groups or biological groups, n independently equals 1-10, m=1-6, Y comprises hydrogen, polymers, silicas or silica supported substrates, and Z comprises hydrogen, alkyls, aryls, a carboxyl group, carboxylate esters, a hydroxyl group, NH2, HSO3, halogens, a carbonyl group, organic groups, biological groups, polymers, silicas or silica supported substrates.【構成】治療上有効な量の配位子を含む、重金属毒性および/または酸化ストレスを緩和するための方法及び製剤処方である。化学式中、R1はベンゼン、ピリジン、ピリジン-4-オン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレンおよびアルキルからなる群から選択される基であり、R2は他とは無関係に水素、アルキル、アリール、カルボキシル基、カルボキシレートエステル、有機基および生物学的基からなる群から選択される基であり、R3は他とは無関係にアルキル、アリール、カルボキシル基、カルボキシレートエステル、有機基および生物学的基からなる群から選択される基であり、Xは他とは無関係に水素、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウム、アルキル、アリール、カルボキシル基、カルボキシレートエステル、システイン、ホモシステイン、グルタチオン、リポ酸、ジヒドロリポ酸、チオリン酸塩(エステル)、N-アセチルシステイン、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、γ-グルタミルシステイン、フィトキラチン、チオサリチル酸塩(エステル)、有機基および生物学的基からなる群から選択される基であり、nは他とは無関係に1~10であり、mは1~6であり、Yは他とは無関係に水素、ポリマー、シリカおよびシリカ担持基質からなる群から選択される基であり、そしてZは水素、アルキル、アリール、カルボキシル基、カルボキシレートエステル、ヒドロキシル基、NH2、HSO3、ハロゲン、カルボニル基、有機基、生物学的基、ポリマー、シリカおよびシリカ担持基質からなる群から選択される基である。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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