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粒子射线照射系统及粒子射线照射系统的控制方法
专利权人:
三菱电机株式会社
发明人:
原田久
申请号:
CN201080066259.6
公开号:
CN102844820A
申请日:
2010.05.27
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明的目的在于在粒子射线照射系统中,提供更高精度的剂量分布。照射控制部(13)包括设定带电粒子束的能量的能量设定控制器(14)、控制射束扫描器(41)的射束扫描控制器(16)、及控制射束直径变更器(40、60)的射束直径控制器(15),照射控制部(13)利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为第一射束直径,利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描,以对照射目标的规定区域照射带电粒子束,之后,利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为与第一射束直径不同的第二射束直径,利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描,以控制成对与照射目标的所述规定区域的至少一部分重叠的区域照射带电粒子束。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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