SYSTÈME D'IMPLANT RACHIDIEN ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ

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专利权人:

Warsaw Orthopedic; Inc.

发明人:

申请号：

EP15827717.8

公开号：

EP3174504A4

申请日:

2015.07.06

申请国别(地区):

EP

年份:

2018

代理人:

摘要：

A spinal implant is provided that comprises a first vertebral engaging surface and a second vertebral engaging surface. A wall extends between the surfaces. A lattice is disposed adjacent the wall and extending between the surfaces. Systems and methods of use are disclosed.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/