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Use of a compound of EP4 agonist for preparing a Pharmaceutical composition useful for treating an Imperfection of the skin to Repair Skin and Related Methods
专利权人:
ALLERGAN; INC.
发明人:
申请号:
ARP110102761
公开号:
AR082428A1
申请日:
2011.07.29
申请国别(地区):
AR
年份:
2012
代理人:
摘要:
Using an EP4 compound with formula structure (1), each dot line represents the presence or absence of two combinations; R1, R2, R3 and R4 represent one selected from H and linear C1-6 tar respectively; R5 is halogen, C1-6 tar or C1-6 alquinilo; R6 is h, C1-6 tar, C1-6 alquinilo C1-6, salt. One or more of these is ammonia; n is 0-7; X is s or is used to make a useful pharmaceutical ingredient to treat skin defects such as wounds, scars and wrinkles. 2. Skin repair method: requirement 2: Requirements 1 for using the characteristics of R4 as H and R3 as H,X is s, claim 3: use claim 1, characterized by R1 and R2 being CH3. 11. Requirement 4: use requirement 1 with R5 as CL.Uso de un compuesto agonista de EP4 que tiene una estructura de fórmula (1) donde cada línea de puntos representa la presencia o ausencia de una unión doble; R1, R2, R3 y R4 están cada una independientemente seleccionadas de H y alquilo lineal C1-6; R5 es halógeno, alquilo C1-6, o alquenilo C1-6; R6 es H, alquilo C1-6, alquenilo C1-6, una sal de las mismas, o una amina de la misma; n es 0 - 7; y X es S u O, para preparar una composición farmacéutica útil para tratar una imperfección de la piel, tales como heridas, cicatrices y arrugas. Métodos para reparar la piel relacionados.Reivindicación 2: El uso de la reivindicación 1, caracterizado porque R4 es H, R3 es H, y X es S. Reivindicación 3: El uso de la reivindicación 1, caracterizado porque R1 y R2 son CH3. Reivindicación 4: El uso de la reivindicación 1, caracterizado porque R5 es Cl.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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