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Skin cosmetic and/or dermatological composition used to limit the adhesion of pathogenic bacteria e.g. Staphylococcus aureus to skin and to limit troublesome phenomena e.g. acne, comprises rhamnose rich polysaccharide
专利权人:
SOCIETE LA BIOCHIMIE APPLIQUEE
发明人:
YVERGNAUX FLORENT,FLORENT YVERGNAUX,SAGUET THIBAUT,THIBAUT SAGUET,MOLINA JEAN FRANCOIS,JEAN FRANCOIS MOLINA,PHILBE JEAN LUC,JEAN LUC PHILBE
申请号:
FR1201082
公开号:
FR2989274A1
申请日:
2012.04.12
申请国别(地区):
FR
年份:
2013
代理人:
摘要:
Skin cosmetic and/or dermatological composition comprises rhamnose rich polysaccharide having a repeating unit (I) mixed with excipients. Skin cosmetic and/or dermatological composition comprises rhamnose rich polysaccharide as an active ingredient having a repeating unit of formula (-4-glucose (Glc)beta 1-2-rhamnose (Rha)alpha 1(3-Rhaalpha 1)-4-glucuronic acid (GlcA)alpha 1-3-Rhabeta 1-) (I) mixed with excipients. ACTIVITY : Antiseborrheic; Dermatological; Antiinflammatory; Antipsoriatic; Immunosuppressive; Antibacterial. MECHANISM OF ACTION : None given.L'invention concerne une composition cosmétique cutanée et/ou dermatologique destinée à limiter l'adhésion des bactéries pathogènes au niveau de la peau, caractérisée en ce qu'elle comprend comme ingrédient actif un polysaccharide riche en rhamnose en mélange avec des excipients inertes acceptables en dermocosmétique. L'invention concerne également l'utilisation de cette composition pour limiter les phénomènes cosmétiques cutanés et/ou dermatologiques incommodants et limiter l'adhésion des bactéries du type Staphylococcus aureus ou Propionibacterium acnes au niveau de la peau.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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