Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Messung der Intensität eines Strahls unter geringer Beeinflussung desselben. Dabei wird ein im Strahlengang des Primärstrahls befindliches Targetmaterial durch den Primärstrahl zur Emission einer Sekundärstrahlung angeregt. Mit einem außerhalb des Strahlengangs des Primärstrahls angeordneten Detektor wird die Intensität dieser Sekundärstrahlung gemessen.Es wurde erkannt, dass durch die räumliche Trennung von Targetmaterial und Detektor eine hohe Genauigkeit und Effizienz der Messung einerseits und eine geringe Beeinflussung des Primärstrahls andererseits keine gegenläufigen Ziele mehr sind. Jedes Material, das zusätzlich in den Strahlengang des Primärstrahls eingebracht wird, beeinflusst den Primärstrahl und beeinträchtigt möglicherweise seine Verwendbarkeit für die eigentliche Anwendung. Indem nun der Detektor nicht mehr in diesem Strahlengang angeordnet sein muss, ist die Beeinflussung des Primärstrahls vorteilhaft minimiert. Die Freiheit bei der Platzierung des Detektors ist umso größer, je ungerichteter die Sekundärstrahlung emittiert wird.Durch die Anordnung des Detektors außerhalb des Strahlengangs des Primärstrahls kann vorteilhaft auch die Sensitivität der Messung, also der Messbereich, ohne Eingriff in den Strahlengang des Primärstrahls angepasst werden. Dazu muss lediglich der Detektor für die Sekundärstrahlung unempfindlicher gemacht werden.The invention relates to a method for measuring the intensity of a beam with little influence thereof. In this case, a target material located in the beam path of the primary beam is excited by the primary beam for emitting a secondary radiation. With a detector arranged outside the beam path of the primary beam, the intensity of this secondary radiation is measured. It has been recognized that the spatial separation of target material and detector means that high accuracy and efficiency of the measurement on the one hand and little influence on the primary beam on the o
