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复合离子注入育种方法
专利权人:
北京师范大学
发明人:
丁晓纪,周宏余,陆挺,张丰收,邓福国,王平
申请号:
CN200610065899.0
公开号:
CN101044839A
申请日:
2006.03.29
申请国别(地区):
中国
年份:
2007
代理人:
摘要:
复合离子注入育种方法所属辐射育种领域。低能离子注入育种,是我国科学家在二十世纪80年代末期首先提出的,在人工辐射育种技术领域内具有创新意义的科学育种方法。单元素离子注入的推广应用,培育出许多新品种。在单离子注入育种过程中,并不是所有种子的变异都满足人们的愿望。复合离子注入育种方法是综合各个单个离子注入的优势,依据每一种植物生长发育的特点,选择适当的离子搭配,同时根据种子的组织结构选择适当的离子注入能量、注入剂量、注入束流剂量率、真空度等条件,对种子进行离子注入。以达到科学实验的预期目的。采用复合离子注入育种,将会得到即稳定高产的,又有优良品质的好品种。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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