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一种利用多点拟合确定连续X射线背景强度的方法
专利权人:
中国地质大学(武汉)
发明人:
杨水源,崔继强,蒋少涌,张若曦
申请号:
CN201810340083.7
公开号:
CN108717065A
申请日:
2018.04.16
申请国别(地区):
中国
年份:
2018
代理人:
龚春来
摘要:
本发明提供一种利用多点拟合确定连续X射线背景强度的方法,包括以下步骤:利用电子探针通过波谱扫描得到待测元素的波谱扫描图;在所述待测元素的波谱扫描图的峰的左边的连续X射线处选取n1个波谱位置,右边的连续X射线处选取n2个波谱位置;利用电子探针通过定量分析分别测试选取的每一个波谱位置处的连续X射线的强度;以选取的波谱位置为x轴,以测试的每一个波谱位置处的连续X射线的强度为y轴,进行曲线拟合,得到待测元素的背景拟合方程;将待测元素的峰所处的波谱位置代入背景拟合方程,即得到待测元素的背景强度值。本发明提供的方法有效消除了背景强度对微量元素的含量的测试结果的影响。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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