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방사선 성형 필터의 선택
专利权人:
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
发明人:
BECKER HANS CHRISTOPH,벡커, 한스-크리스토프,FLOHR THOMAS,플로르, 토마스,SCHMIDT BERNHARD,슈미드트, 베른하드
申请号:
KR1020130123378
公开号:
KR1020140049937A
申请日:
2013.10.16
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention relates to a method of selecting radiation shaping filters (200a, 200b, 200c, 200d, 200e, and 200f) to change space distribution of intensities and/or spectrums of x lines (R, R&prime) of x line circles (100) in a shooting system (10). More particularly, the present invention relates to a method of recording anatomic measurement data (T, B) of a check target (O), creating image data with help of the shooting system (10) in a next step, and automatically selecting the radiation shaping filters (200a, 200b, 200c, 200d, 200 e, and 200f) based on the recorded anatomic measurement data (T, B). Further, the present invention relates to a shooting system (10) for selecting the radiation shaping filters (200a, 200b, 200c, 200d, 200e, and 200f) using the above method of the present invention.COPYRIGHT KIPO 2014본 발명은 촬영 시스템(10)의 x선원(100)의 x선들(R, R)의 세기 및/또는 스펙트럼의 공간 분포를 변경하는, 방사선 성형 필터(200a, 200b, 200c, 200d, 200e, 200f)의 선택 방법으로서, 검사 대상(O)의 해부학상 측정 데이터(T, B)가 기록되고, 이로부터 차후의 단계에서 상기 촬영 시스템(10)의 도움으로 영상 데이터가 작성될 것이고, 상기 검사 대상(O)의 상기 기록된 해부학상 측정 데이터(T, B)를 기반으로 상기 방사선 성형 필터(200a, 200b, 200c, 200d, 200e, 200f)가 자동으로 선택되는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 추가로 본 발명의 방법을 이용하여 방사선 성형 필터(200a, 200b, 200c, 200d, 200e, 200f)가 선택되는 촬영 시스템(10)에 관한 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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