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Sunscreen composition
专利权人:
ポーラ化成工業株式会社;POLA CHEM IND INC
发明人:
山田 麻衣子,佐々 祥子,YAMADA MAIKO,SASA SHOKO
申请号:
JP2018227906
公开号:
JP2020090453A
申请日:
2018.12.05
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition capable of leading a skin to a sunburn resistant property. A composition containing a hawthorn extract and tranexamic acid or a derivative thereof or a salt thereof. The composition can suppress the expression of the clock gene Dec1 in keratinocytes, thereby suppressing the production of the inflammatory mediator PGE2. [Selection diagram] Figure 1【課題】肌を日焼けしにくい性質に導くことができる組成物を提供する。【解決手段】サンザシエキスとトラネキサム酸もしくはその誘導体またはその塩とを含有する組成物。該組成物は、ケラチノサイトにおける時計遺伝子Dec1の発現を抑制することができ、それにより炎症性メディエータPGE2の産生が抑制される。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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