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UNSATURATED QUATERNARY AMMONIUM SALT
专利权人:
KJケミカルズ株式会社;KJ CHEMICALS CORP
发明人:
KUDO MAYU,工藤 繭,HIRATA AKIMICHI,平田 明理
申请号:
JP2014015968
公开号:
JP2015140341A
申请日:
2014.01.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an unsaturated quaternary ammonium salt with high purity, which includes no halogen in the molecule, has high safety, is harmless to environment, includes no water, further is excellent in solubility in water, organic solvents, usually used vinyl monomers, and resins, and is suitably used for various electrochemical devices, and an efficient and economical production method of the unsaturated quaternary ammonium salt, and to provide a composition which includes a compound of the unsaturated quaternary ammonium salt as a component.SOLUTION: A production method of an unsaturated quaternary ammonium salt using no water and/or no protonic organic solvent as a reaction solvent, and including a step to make a cyclic ether group-containing compound and a tertiary amine compound react with each other, and a composition containing the unsaturated quaternary ammonium salt are disclosed.【課題】ハロゲンを分子内に含まず、安全性が高く、環境に無害で、水分を含まない、且つ、水や有機溶媒、通用のビニルモノマー、樹脂への溶解性に優れ、各種電気化学デバイスにも好適に用いられる、高純度の不飽和第四級アンモニウム塩、及び該不飽和第四級アンモニウム塩の効率的、且つ経済的な製造方法を提供する。また、該不飽和第四級アンモニウム塩化合物を構成成分とする組成物を提供する。【解決手段】反応溶媒として、水及び/またはプロトン性有機溶媒を用いず、環状エーテル基含有化合物と三級アミン化合物を反応させる工程を含むことを特徴とする不飽和第四級アンモニウム塩の製造方法、及び該不飽和第四級アンモニウム塩を含有する組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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