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磁気共鳴イメージング装置及び領域撮像方法
专利权人:
HITACHI MEDICAL CORPORATION
发明人:
NAKANISHI,Kenji,中西 健二,ITAGAKI,Hiroyuki,板垣 博幸,NISHIHARA,Takashi,西原 崇
申请号:
JPJP2012/082139
公开号:
WO2013/105384A1
申请日:
2012.12.12
申请国别(地区):
WO
年份:
2013
代理人:
摘要:
In order to comply with imaging conditions and reduce deterioration of image quality due to static magnetic field heterogeneity without increasing operator workload: a shimming current that reduces the static magnetic field heterogeneity of a selected region is determined the selected region is shimmed using the determined local BO shimming current and the irradiation phase increment (RF-Phase) or the post-adjustment excitation frequency (f0), which is the excitation frequency, of the RF pulse that excites the selected region is determined when the static magnetic field heterogeneity of the selected region is reduced. The irradiation phase increment (RF-Phase) and the post-adjustment excitation frequency (f0), which is the excitation frequency, are quantities that correspond with each other.Afin de satisfaire les conditions dimagerie et de réduire la détérioration de la qualité dimage due à lhétérogénéité du champ magnétique statique sans augmenter la charge de travail de lopérateur, un courant de compensation qui réduit lhétérogénéité du champ magnétique statique dans une région sélectionnée est déterminé la région sélectionnée est compensée à laide du courant de compensation BO local déterminé et lincrément de la phase dirradiation (Phase RF) ou la fréquence dexcitation après ajustement (f0), qui est la fréquence dexcitation, de limpulsion RF qui excite la région sélectionnée est déterminé une fois que lhétérogénéité du champ magnétique statique de la région sélectionnée est réduite. Lincrément de la phase dirradiation (Phase RF) et la fréquence dexcitation après ajustement (f0), qui est la fréquence dexcitation, sont des quantités qui se correspondent lune lautre.操作者の負担を増大することなく、撮像条件に対応して、静磁場不均一による画質劣化を低減するために、選択領域の静磁場不均一が小さくなくなるようなシミング電流を求め、求めた局所Boシミング電流を用いて選択領域をシミングして、該選択領域の静磁場不均一を低減した状態での、該選択領域を励起するRFパルスの、照射位相のインクリメント量(RF-Phase)、又は、励起周波数である調整後励起周波数(f0)を求める。これら照射位相のインクリメント量(RF-Phase)と励起周波数である調整後励起周波数(f0)とは互いに対応する量となる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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