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Hydrogen infiltration device
专利权人:
株式会社フォーエス
发明人:
島田 勝之助
申请号:
JP2019023191
公开号:
JP2020130216A
申请日:
2019.02.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hydrogen infiltration device capable of increasing the hydrogen pressure on the surface of an object even with a small amount of hydrogen and efficiently permeating hydrogen into the object. A hydrogen permeation device 100 according to the present invention is a device that supplies hydrogen to the surface of an object 30 and permeates hydrogen into the inside of the object 30, and has a diaphragm 11 and an outer wall 12. A cover 1 that covers the object 30, a ring 2 that is connected to the cover 1 and is arranged at the end of the object 30, a hydrogen introduction port 3 that supplies hydrogen to the inside of the cover 1, a diaphragm 11 and an outer wall 12. It has an inert gas introduction port 4 for supplying an inert gas to the formed space 40, and a sealing valve 5 provided on the ring 2. The sealing valve 5 is composed of a laminated body of a first layer 51 in contact with the ring 2 and a second layer 52 laminated on the first layer 51, and the first layer 51 is connected to the ring 2. A wrinkled portion 56 protruding inward of the ring 2 is formed in the vicinity of the portion 54. [Selection diagram] Fig. 1【課題】少ない水素の量であっても、対象物表面における水素圧を昇圧することができ、水素を対象物に効率よく浸透させる水素浸透装置を提供する。【解決手段】本発明に係る水素浸透装置100は、対象物30の表面に水素を供給し、対象物30の内部に水素を浸透させる装置であって、隔膜11と外壁12とを有し、対象物30を覆うカバー1と、カバー1に接続され、対象物30の端部に配置されるリング2と、カバー1内部に水素を供給する水素導入口3と、隔膜11と外壁12とで形成される空間40に不活性ガスを供給する不活性ガス導入口4と、リング2に設けられた密閉用弁5と、を有する。密閉用弁5は、リング2に接する第一層51と、当該第一層51に積層された第二層52との積層体で構成され、第一層51には、リング2と接続する接続部54近傍において、リング2の内側に向かって突出する皺部56が形成されている。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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