您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

毛穴隠しに好適な化粧方法およびその化粧料
专利权人:
POLA CHEM IND INC
发明人:
IIDA MASAE,飯田 昌枝,MUNEYOSHI HIROKI,宗吉 裕樹
申请号:
JP2013019988
公开号:
JP2014094929A
申请日:
2013.02.05
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a make-up method preferable for covering pores whose opening parts on a skin surface have been enlarged along with aging, a cosmetic, in detail a foundation cosmetic, preferable for achieving the method.SOLUTION: A make-up method preferable for covering pores may be provided with a make-up method having a feature in which approximately hemispheric or semi-elliptic spherical organic or inorganic powder is stuck to pores. More preferably, the approximately hemispheric or semi-elliptic spherical organic or inorganic powder has a longitudinal diameter of 20 μm to 100 μm and bowl-shape or shell-shape so that a recessed part is provided on a center part thereof. Also provided is a cosmetic, in detail a foundation cosmetic, comprising such powder.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】本発明は、加齢に伴い毛穴の皮膚表面の開口部が広がっていることを特徴とした毛穴を隠すために好適な化粧方法を提供し、また、当該方法を実現するために好適な化粧料、さらに詳細には下地化粧料を提供することを課題とする。【解決手段】ほぼ半球状あるいは半楕円球状の有機または無機粉体を毛穴に密着させることを特徴とする化粧方法により、毛穴隠しに好適な化粧方法を提供できる。さらに好ましくは、かかるほぼ半球状あるいは半楕円球状の有機または無機粉体長径が20μm~100μmであり、その中央部に凹部を有するお椀型またはシェル型を呈することがより好ましく、かかる粉体が配合された化粧料、さらに詳細には下地化粧料を提供する。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充