膝部线圈

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专利权人:

西门子公司

发明人:

R.雷纳

申请号：

CN201510190832.9

公开号：

CN105044633A

申请日:

2015.04.21

申请国别(地区):

CN

年份:

2015

代理人:

摘要：

本发明涉及一种方法和用于成像的MRT系统(101)的局部线圈(106)，用于在膝部(K1)进行磁共振断层成像，其特征在于：用于布置在膝部(K1，K2)的屏蔽罩(S)。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/