粒子束治疗装置以及照射野形成方法
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 岛仓智一,中岛千博,远竹聪,富田和雄,藤田毅
- 申请号：
- CN201911198933.5
- 公开号：
- CN111569274A
- 申请日:
- 2019.11.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种粒子束治疗装置以及照射野形成方法，其课题在于在粒子束治疗装置中，避免扫描部或者包含该扫描部的照射装置的大型化，并且将照射野扩大。在扫描部(34)的下游侧设置有移位部(36)。移位部(36)使作为粒子束的碳束偏转而使照射野移位，由此产生扩大照射野。移位部(36)包含使照射野沿Y方向移位的第1移位电磁铁(42)和使照射野沿X方向移位的第2移位电磁铁(44)。扫描部(34)被动态地控制，移位部(36)被静态地控制。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
