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COMPOSITION PHARMACEUTIQUE À ACTION ANTIMICROBIENNE ET CICATRISANTE POUR APPLICATION EXTERNE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
专利权人:
LIMONOV;ЛИМОНОВ, Виктор Львович;LIMONOV, Viktor Lvovich; Viktor Lvovich
发明人:
GAIDUL, Konstantin Valentinovich,ГАЙДУЛЬ, Константин Валентинович,DUSHKIN, Aleksandr Valerevich,ДУШКИН, Александр Валерьевич
申请号:
RURU2011/000322
公开号:
WO2012/039642A8
申请日:
2011.05.11
申请国别(地区):
RU
年份:
2012
代理人:
摘要:
The invention relates to pharmacology, medicine, veterinary medicine and to the pharmaceutical industry, in particular to a process for preparing original composite antimicrobial and fast-healing preparations for external administration which have increased therapeutic effectiveness in the treatment of infections of the skin and soft tissues. The proposed pharmaceutical composition comprises, as active ingredient, the antibiotic fosfomycin and highly disperse nanostructured silicon dioxide. The claimed process for preparing a pharmaceutical composition consists in mixing the substance fosfomycin with highly disperse nanostructured silicon dioxide and is characterized in that the mixture of the above-mentioned substances in ratios of 25-75 mass% : 75-25 mass% is subjected to mechanical processing by means of impact abrasion until the proportion by weight of the finely disperse fraction (≤5 µm) is increased to at least 40%.L'invention se rapporte au domaine de la pharmacologie, de la médecine, de la médecine vétérinaire et de l'industrie pharmaceutique, et concerne un procédé de production de préparations originales composites antimicrobiennes et cicatrisantes pour application externe, lesquelles possèdent une efficacité thérapeutique accrue lors du traitement d'infections de la peau et des tissus mous. Cette composition pharmaceutique contient en qualité de principe actif un antibiotique à base de phosphomycine et du dioxyde de silicium nanostructuré à dispersion élevée. Le procédé de production de cette composition pharmaceutique consiste à mélanger la substance à base de phosphomycine avec du dioxyde de silicium nanostructuré à dispersion élevée, lequel procédé est caractérisé en ce que le mélange des substances susmentionnées, selon des proportions de (25-75 % en poids) : (75-25 % en poids), est soumis à un traitement mécanique consistant à appliquer des actions de chocs et d'itération jusqu'à ce que la part en poids de la fraction à dispersion fine (≤5 microns) a
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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