The present invention provides a method for producing a fine filter. The method includes forming a mold having a protruding portion of the first width Forming a filter on one surface of a substrate Step of coating a resist film on said filter membrane Forming a first opening in the projecting portion is dipped in the resist film and the mold to reach the filter membrane over the resist film Forming a second opening for exposing the substrate etched by using the filter film in the resist film an etch mask Removing the resist film And a step of exposing the membrane filter to remove a portion of the opening portion of the substrate surface side opposite to the first surface. In this way, with high reproducibility of a fine filter having an opening width narrower than the line width as implemented in the lithographic process can be economically produced.본 발명은 미세 필터의 제조 방법을 제공한다. 이 방법은 제 1 폭의 돌출부를 가지는 몰드를 형성하는 단계 기판의 일면 상에 필터막을 형성하는 단계 상기 필터막 상에 레지스트막을 코팅하는 단계 상기 돌출부가 상기 레지스트막을 통해 상기 필터막과 닿도록 상기 몰드로 찍어 상기 레지스트막에 제 1 개구부를 형성하는 단계 상기 레지스트막을 식각마스크로 이용하여 상기 필터막을 식각하여 상기 기판을 노출시키는 제 2 개구부를 형성하는 단계 상기 레지스트막을 제거하는 단계 및 상기 일면과 반대되는 면 쪽의 상기 기판의 일부를 제거하여 상기 필터막의 상기 개구부를 노출시키는 단계를 포함한다. 이 방법으로 리소그래피 공정으로 구현가능한 선폭보다 좁은 폭의 개구부를 가지는 미세한 필터를 재현성있게 경제적으로 제조할 수 있다.
