用于光降解聚乙烯薄膜的光敏催化剂及用途

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专利权人:

中国科学院上海有机化学研究所

发明人:

唐松青,徐思羽,黄根龙,唐大森,李良发,王剑良,丁宏勋

申请号：

CN85100494

公开号：

CN85100494A

申请日:

1985.04.01

申请国别(地区):

中国

年份:

1986

代理人:

邬震中`石家荣

摘要：

本发明属于光降解聚乙烯薄膜的光敏催化剂及用途。该光敏催化剂是一类分子式为的长链取代基二茂铁衍生物，式中R′＝H或R，R＝C₇-C₁₁烷基、烯基、羧酸基、羧酸酯基，或COR″而R″为C₆-C₁₀烷基、烯基、羧酸基或羧酸酯基。用一种或二种以上的这类光敏催化剂能生产可控光降解聚乙烯薄膜，催化剂的添加量为0.01-0.5％(重量)。膜厚度为3-15微米，这种光降解薄膜可用作农作物覆盖地膜。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/