一种光降解聚氯乙烯地膜制作方法及产品
- 专利权人:
- 重庆乐乎科技有限公司
- 发明人:
- 周方建
- 申请号：
- CN201510977620.5
- 公开号：
- CN105440496A
- 申请日:
- 2015.12.23
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种光降解聚氯乙烯地膜制作方法，包括以下步骤：制备氧化石墨：以石墨粉为原料制备氧化石墨；制备石墨烯：取一定量的氧化石墨放入去离子水，超声处理１～３小时，将获得的溶液水浴加热，水浴温度控制在75～85℃；加入3～10g硼氢化钠还原，将最后的混合容易洗涤、抽滤、干燥后得到石墨烯粉末；制备复合膜：取氧化石墨或石墨烯放入水中，超声处理１～３小时，加入聚氯乙烯和二氯乙烷强力搅拌5～8小时得到混合溶液，将混合溶液平铺在光滑面板上，烘干成型得到氧化石墨聚氯乙烯复合膜或石墨烯聚氯乙烯复合膜；其效果在于：能有效提高聚氯乙烯地膜的光降解，减少白色污染。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
