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Treatment of autoimmune diseases
专利权人:
NOVARTIS AG
发明人:
GERGELY, PETER,WALLSTROEM, ERIK
申请号:
PE2012002122
公开号:
PE20130612A1
申请日:
2011.05.05
申请国别(地区):
PE
年份:
2013
代理人:
摘要:
It refers to a formula compound (I), wherein R1 is halogen, trihalogenomes, oh, C1-C7 tar, iodine trifluoride, etc.; R2 is h, halide, alcoxi C1-C4, fenityl, benciloxi, etc.; R3 is h, halogen, CF3, C1-C7 tar, phenyl, etc.; R4 and R5 are h,1. A residual formula (a);R8 AND R9 ARE EACH H OR C1-C4 ALKYL OPTIONALLY REPLACED BY HALOGEN; n IS AN INTEGER OF 1 - 4; X IS O, SO, S, SO2. THE PREFERRED COMPOUNDS ARE: 2-AMINO-2- [4- (3-BENCILOXIFENILTIO) -2-CHLOROFENIL] ETIL-PROPANO-1,3-DIOL; MONO ESTER - {(S) -2-AMINO-4- [4- (3-BENCILOXI-PHENYLSULFANIL) -2-CHLORINE-PHENYL] -2-HYDROXYMETHYL-BUTYLIC} OF PHOSPHORIC ACID; AMONG OTHERS. SAID COMPOUND IS A WELL TOLERATED IMMUNOSUPPRESSOR WITH A FAVORABLE SAFETY PROFILE USEFUL IN TREATMENT OF ACUTE SUBCUTANEOUS LUPUS ERITEMATOSUS.SE REFIERE A UN COMPUESTO DE FORMULA (I) DONDE: R1 ES HALOGENO, TRIHALOGENOMETILO, OH, ALQUILO C1-C7, TRIFLUOROMETOXI, ENTRE OTROS; R2 ES H, HALOGENO, ALCOXI C1-C4, FENETILO, BENCILOXI, ENTRE OTROS; R3 ES H, HALOGENO, CF3, ALQUILO C1-C7, FENILO, ENTRE OTROS; R4 Y R5 SON CADA UNO H , UN RESIDUO DE FORMULA (a); R8 Y R9 SON CADA UNO H O ALQUILO C1-C4 OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR HALOGENO; n ES UN ENTERO DE 1 - 4; X ES O, SO, S, SO2. SON COMPUESTOS PREFERIDOS: 2-AMINO-2-[4-(3-BENCILOXIFENILTIO)-2-CLOROFENIL] ETIL-PROPANO-1,3-DIOL; ESTER MONO-{(S)-2-AMINO-4-[4-(3-BENCILOXI-FENILSULFANIL)-2-CLORO-FENIL]-2-HIDROXIMETIL-BUTILICO} DEL ACIDO FOSFORICO; ENTRE OTROS. DICHO COMPUESTO ES UN INMUNOSUPRESOR BIEN TOLERADO Y CON UN PERFIL DE SEGURIDAD FAVORABLE UTIL EN EL TRATAMIENTO DE LUPUS ERITEMATOSO SUBCUTANEO AGUDO.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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