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粒子線治療計畫裝置,以及粒子線照射的模擬方法
专利权人:
MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人:
PU, YUEHU,蒲越虎,SAKAMOTO, YUSUKE,坂本裕介,YAMADA, YUKIKO,山田由希子,IKEDA, MASAHIRO,池田昌広,FUJI, HIDEKI,冨士英辉,冨士英輝
申请号:
TW103125637
公开号:
TWI589328B
申请日:
2014.07.28
申请国别(地区):
TW
年份:
2017
代理人:
摘要:
This invention provides a simulation method for particle beam irradiation, which comprises: a sub-beam approximation step of approximating a particle beam with combination of a plurality of sub-beams having Gaussian distribution respectively; and a sub-beam dose distribution calculation step of simulating the proceeding state of the plurality of sub-beams after being deflected by a scanning apparatus, to thereby calculates respective sub-beam dose distribution formed by each sub-beams inside the patient, then accumulates each calculated sub-beam dose distribution to obtain the dose distribution inside the patient formed by the particle beam.本發明之粒子線照射的模擬方法係具備:副射束近似步驟,係以分別具有高斯分佈之複數個副射束的集合來近似粒子線;以及副射束線量分佈演算步驟,係模擬複數個副射束之各個副射束被藉由掃描裝置偏向而行進之狀態,藉此演算各個副射束形成於患者內部之各個副射束線量分佈,並藉由累加所演算之各個副射束線量分佈,而求出粒子線形成於患者內部之線量分佈。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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