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一种抗辐射防龋消炎的口腔药物组合物及其制剂
专利权人:
中国人民解放军第四军医大学
发明人:
李广文,李刚,李卉,王军
申请号:
CN201410843153.2
公开号:
CN104491840A
申请日:
2014.12.30
申请国别(地区):
CN
年份:
2015
代理人:
摘要:
本发明公开了一种抗辐射防龋消炎的口腔药物组合物及其制剂,属于口腔药物制剂技术领域。以质量份数计,包括100~500份的白扁豆提取物,100~2000份的葡萄籽原花青素提取物,300~3000份的茶多酚,0.01~0.1份的表皮生长因子EGF,10~200份的玉洁纯及2~6份的六氟硅酸铵。本发明公开的口腔药物组合物及其制剂具有持久抗菌效果,能够长时间附着在牙齿或口腔表面,形成保护膜,温柔呵护口腔,而且口感良好,对人体安全。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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