您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

SOLUTION DE RÉPARATION DE COMPLEXE DE MEMBRANE CHIMIQUE ET SON PROCÉDÉ D'UTILISATION
专利权人:
IUVENI LLC
发明人:
PARSONS, Camie
申请号:
USUS2018/043969
公开号:
WO2019/147304A1
申请日:
2018.07.26
申请国别(地区):
US
年份:
2019
代理人:
摘要:
Chemical membrane complex (CMC) in hair strands is damaged by exposure to environmental factors, and by hair processing methods that use basic solutions to permanently reshape and/or recolor hair. A CMC repair solution contains components of CMC that repair CMC while cuticle cells are lifted following coloring or perming. Hair treatment with CMC repair solution quenches reactive chemicals on hair and rebuilds damaged CMC on hair. Hair treatment with some embodiments of CMC repair solution lowers cuticle cells by reducing hair pH. Application of CMC repair solution to cuticle-lifted hair strands allows permanent hair reshaping and permanent hair coloring in a single treatment session without loss of cuticle cells or associated hair damage.L'invention est motivée par le fait que le complexe de membrane chimique (CMC) dans les mèches de cheveux peut être endommagé par exposition à des facteurs environnementaux, et par des procédés de traitement des cheveux qui utilisent des solutions basiques pour remodeler et/ou recolorer de façon permanente les cheveux. Une solution de réparation de CMC contient des composants de CMC qui réparent le CMC tandis que les cellules de cuticule sont soulevées après une coloration ou une permanente. Le traitement capillaire avec une solution de réparation de CMC désactive les produits chimiques réactifs sur les cheveux et reconstruit le CMC endommagé sur les cheveux. Le traitement capillaire avec certains modes de réalisation de la solution de réparation de CMC abaisse les cellules de cuticule par réduction du pH des cheveux. L'application d'une solution de réparation de CMC sur des mèches de cheveux à cuticule soulevée permet un remodelage permanent des cheveux et une coloration permanente des cheveux dans une seule séance de traitement sans perte de cellules de cuticule ou sans dégradation des cheveux associée.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充